GLSL细分环境-补丁之间的间隙

Question

所以我一直在编写一个使用镶嵌着色器和高度图来绘制环境的程序。它最初是一个32x32的平面，当它被更多地镶嵌时，每个正方形顶点的高度由高度图确定。

我希望离相机越近的修补程序越被镶嵌。然而，我发现这会导致修补程序之间出现间隙。如果一个修补程序比旁边的修补程序更被镶嵌，不同的分辨率会导致间隙。

如下图片说明了问题： 如果两个修补程序具有相同的分辨率，则没有间隙。我该如何解决这个问题？我完全陷入了困境。

- danglingPointer

Answer 1

UV坐标沿着边缘需要均匀变化才能无缝连接。当在相同细分级别下完成时，有一些相当可靠的不变性保证。然而，当两个边缘以不同的速率进行子细分时，这种情况很少发生。

从技术上讲，你所拥有的是一个T形接口。它发生是因为两个表面应该共享一个边缘，但实际上略有分歧。插入一个新的偏移顶点会创建两个原语体，其中没有一个与相邻补丁的一个原语体共享边缘。

你需要使外部细分级别对于共享边缘的补丁相同：

^{*如GPU Gems 2中所示}

- Andon M. Coleman

Answer 2

我相信你已经熟悉了连续细节问题。在网上搜索这个问题会得到几种解决间隙问题的方法。其中一个网站是这里，我复制了下面的图片。

在你的情况下，有趣的一点是曲面细分似乎不是按2^n递增/递减的方式进行的。因此，在你的情况下，可能将面添加到每个地形网格块的四个边界上，作为帷幕，可能是唯一可行的解决方案。

如果你看一下下面的图片，你会看到边界有垂直的面。 副作用是，如果间隙足够大，那么它可能被看作是悬崖。你需要调整细节级别之间的曲面细分，以最小化这种副作用。

- Keugyeol

Answer 3

这是我最终采取的方案;

所以我意识到，在两个路径之间只有外部镶嵌级别需要匹配，内部镶嵌级别可以任意设置。在GLSL中，TCS让你填写以下信息来确定进行多少次细分：

gl_TessLevelInner[0]
gl_TessLevelInner[1]
gl_TessLevelOuter[0]
gl_TessLevelOuter[1]
gl_TessLevelOuter[2]
gl_TessLevelOuter[3]

四个TessLevelOuter代表了四边（正方形）的细分级别。你会传递正方形每个角的位置。为了确定内部细分级别，我将这四个位置平均并计算其与相机的距离。现在对于每条边（由外部细分级别控制），我将两个适当的角落位置取平均并计算其与相机的距离。由于需要和旁边的面片匹配，因为它们共享角落，所以这样可以实现。

- danglingPointer