已经有一些关于OpenGL文本渲染的问题，例如:
但大多数讨论的是使用固定功能管线渲染纹理矩形。肯定着色器必须有更好的方法。
我并不真正关心国际化，我的大部分字符串将是绘图刻度标签（日期和时间或仅数字）。但是，这些图形将按屏幕刷新率重新呈现，并且可能会有相当多的文本（不超过几千个字形在屏幕上，但足够使用硬件加速的布局）。
使用现代OpenGL进行文本渲染的推荐方法是什么？（引用使用该方法的现有软件是其有效性的良好证据）
如果您需要呈现的字符数不止一打，那么呈现轮廓线仍然是“不可取”的，因为每个字符所需的顶点数来近似曲率太多了。尽管已经有方法在像素着色器中评估贝塞尔曲线，但这些方法无法轻松地进行反走样处理，而使用距离映射纹理四边形则非常容易实现。而且，在着色器中评估曲线仍然比必要的计算代价更高。
“快速”和“质量”之间最好的折衷方案仍然是使用带有符号距离场纹理的纹理四边形。它比使用普通纹理四边形稍微慢一点，但并不多。另一方面，质量则完全不同。结果真的很惊人，速度也非常快，例如添加发光效果也非常容易。此外，如果需要，该技术可以很好地降级到旧硬件。
有关技术，请参见著名的Valve论文。
这种技术在概念上类似于隐式表面（代谢球等）的工作方式，尽管它不会生成多边形。它完全在像素着色器中运行，并将从纹理采样得到的距离作为距离函数。选择阈值以上的所有内容（通常为0.5）为“内部”，其他所有内容为“外部”。在最简单的情况下，在10年前的非着色器可用硬件上，将alpha测试阈值设置为0.5将完成这个过程（虽然没有特殊效果和反走样）。如果要增加字体的粗度（模拟粗体），则稍微减小阈值即可实现，而无需修改任何一行代码（只需更改“font_weight”统一变量）。对于发光效果，只需将一个阈值以上的所有内容视为“内部”，并将另一个（较小的）阈值以上的所有内容视为“外部，但具有发光效果”，并在两者之间进行LERP。反走样处理方法也类似。
通过使用8位带符号距离值而不是单个位，该技术每个维度将您的纹理映射的有效分辨率增加16倍（使用黑白以外的所有可能的色调，因此使用相同的存储空间我们获得256倍的信息）。但即使您放大到16倍以上，结果仍然看起来相当可接受。长直线最终会变得有点波浪，但没有典型的“块状”采样伪像。
您可以使用几何着色器从点生成四边形（减少总线带宽），但是说实话，收益相对较小。就像在GPG8中描述的那样，对于实例化字符渲染也是如此。仅当您有大量文本需要绘制时，才会摊销实例化的开销。在我看来，这种收益与增加的复杂性和不可降级性之间没有关系。此外，您要么受到常数寄存器数量的限制，要么必须从纹理缓冲区对象中读取，这对于高速缓存一致性来说是非最优的（而意图是进行优化！）。
gl_VertexID传递下去，在几何着色器中将其扩大到4个点，仍然保留字符索引和顶点ID作为唯一属性，并通过变换反馈捕获它。这样，理想情况下，可以将所需的顶点带宽降低75％（摊销），但仅能渲染单行。如果要在一个绘制调用中渲染多行，则需要将基线添加到缓冲纹理中，而不是使用uniform（使带宽收益较小）。
但是，即使假设减少了75％ - 因为显示“合理”数量的文本所需的顶点数据只有大约50-100kiB（对于GPU或PCIe总线来说实际上是零），我仍然怀疑增加的复杂性和失去向后兼容性真的值得麻烦。将零减少75％仍然只是零。我承认我没有尝试过上述方法，需要进行更多的研究才能作出真正合格的陈述。但是，除非有人能够展示真正惊人的性能差异（使用“普通”数量的文本，而不是数十亿个字符！），否则我的观点仍然是对于顶点数据，简单的旧式顶点缓冲区足以被认为是“最先进解决方案”的一部分。它简单而直接，它工作，并且工作得很好。
已经在上面提到过“OpenGL Insights”，值得一提的是Stefan Gustavson的章节“2D Shape Rendering by Distance Fields”详细介绍了距离场渲染。clip(...)行替换为if (text.a < 0.5) {discard;}（或text.a < threshold）来适应GLSL。希望有所帮助。 - Engineerhttp://code.google.com/p/glyphy/
GLyphy与其他基于SDF的OpenGL渲染器最大的区别在于，大多数其他项目将SDF采样到纹理中。这会导致轮廓失真和低质量等常见问题。相反，GLyphy使用实际向量表示提交给GPU的SDF。这可以实现非常高质量的渲染。
缺点是该代码适用于带有OpenGL ES的iOS。 我可能会制作一个Windows / Linux OpenGL 4.x版本（希望作者添加一些真正的文档）。
目前最常用的技术仍然是纹理四边形。然而在2005年，LORIA开发了一种称为矢量纹理的技术，即将矢量图形渲染成基本元素上的纹理。如果使用这种技术将TrueType或OpenType字体转换为矢量纹理，则可以获得以下结果：
http://alice.loria.fr/index.php/publications.html?Paper=VTM@2005
glPathGlyphsNV将字体转换成路径，该路径依赖于freetype2库来获取度量等信息。然后，您还可以使用glGetPathSpacingNV访问字距信息，并使用NVpr的一般路径呈现机制显示使用路径-"转换"字体的文本。（我用引号括起来，因为没有真正的转换，曲线就是原样使用。）我从Rougier的论文中学到了一件事情（Kilgard似乎没有考虑过），即字体权威（Microsoft+Adobe）创建了不止一种字距规范方法。旧的方法基于所谓的kern表，由freetype支持。新的方法称为GPOS，只有像HarfBuzz或pango这样的新字体库才支持它。由于NVpr似乎不支持这些库中的任何一个，因此对于某些新字体，NVpr可能无法直接使用字距；根据this forum discussion，这些字体在某些情况下确实存在。
最后，如果你需要进行复杂文本布局(CTL)，似乎OpenGL并没有相应的库可用（而DirectWrite则可以处理CTL）。有一些开源库，比如HarfBuzz，可以渲染CTL，但我不知道怎样通过OpenGL将它们与基于模板的方法很好地结合使用。你可能需要编写粘合剂代码来提取重新调整的轮廓，并将它们作为路径输入到NVpr或基于SDF的解决方案中。